半導(dǎo)體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點(diǎn)。揮發(fā)性有機(jī)廢氣主要來(lái)源于光刻、顯影、刻蝕及擴(kuò)散等工序,在這些工序中要用有機(jī)溶劑(如異丙醇對(duì)晶片表面進(jìn)行清洗,其揮發(fā)產(chǎn)生的廢氣是有機(jī)廢氣的來(lái)源之一);同時(shí),在光刻、刻蝕等過(guò)程中使用的光阻劑(光刻膠)中含有易揮發(fā)的有機(jī)溶劑,如醋酸丁酯等,是有機(jī)廢氣產(chǎn)生的又一來(lái)源。半導(dǎo)體制造工藝中清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等都會(huì)揮發(fā)出有機(jī)污染物,其廢氣治理需求巨大。
廢氣主要為半導(dǎo)體行業(yè)生產(chǎn)中光刻、顯影、刻蝕及擴(kuò)散等工藝產(chǎn)生的有機(jī)揮發(fā)污染物,常見(jiàn)物質(zhì)主要包括:異丁醇、醚類、酯類等。
1、VOCs種類多:光刻、顯影、刻蝕及擴(kuò)散中使用的有機(jī)溶劑和光阻劑等種類多,導(dǎo)致?lián)]發(fā)的有機(jī)廢氣成分復(fù)雜。
2、廢氣水溶性差:上述有機(jī)溶劑和光阻劑等普遍水溶性差,傳統(tǒng)洗滌、生物濾池工藝對(duì)其凈化效果有限。
3、臭味大:有機(jī)溶劑和光阻劑等嗅閾值低,低濃度下就有明顯的惡臭氣味。這要求凈化工藝有較高的凈化效率。
耦合催化技術(shù)是運(yùn)用高能紫外線照射核心光催化劑,產(chǎn)生羥基自由基、超氧自由基等活性物質(zhì),因而可以裂解惡臭氣體物質(zhì),例如:苯、甲苯、二甲苯、酯類、氨、三甲胺、硫化氫、甲硫醇、甲硫氰、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯乙烯等。最終使惡臭氣體物質(zhì)裂解成易去除的小分子中間產(chǎn)物或者無(wú)害的礦化產(chǎn)物(二氧化碳和水等),整個(gè)技術(shù)具有清潔高效、設(shè)備簡(jiǎn)單、運(yùn)行成本低的優(yōu)點(diǎn)。
耦合催化技術(shù)中高性能催化劑是光催化工藝處理VOCs的技術(shù)核心!目前市場(chǎng)上沒(méi)有一種催化劑是萬(wàn)能的,我司基于基于華東理工大學(xué)的專利技術(shù),采用獨(dú)特的氣相燃燒工藝,實(shí)現(xiàn)了貴金屬亞納米團(tuán)簇耦合光催化劑的精準(zhǔn)構(gòu)筑和可控制備;該催化劑具有優(yōu)異的光催化性能和穩(wěn)定性;同時(shí)實(shí)現(xiàn)了超高的貴金屬原子的利用效率,催化性能比同類產(chǎn)品大幅提高,很好的解決了行業(yè)技術(shù)困擾;
系統(tǒng)主要由管道輸送系統(tǒng)、前置洗滌、耦合催化系統(tǒng)、后置洗滌、排放系統(tǒng)和輔助整個(gè)除臭系統(tǒng)的控制系統(tǒng)組成,流程如下:
光催化劑通過(guò)不可逆化學(xué)反應(yīng)斷裂污染物分子鍵,完全分解
凈化效率達(dá)90%以上對(duì)烴、鹵代烴、有機(jī)硫、含氮化合物、羧酸等眾多有機(jī)物都可有效凈化
對(duì)100種以上VOCs成分有效最終完全礦化產(chǎn)物為二氧化碳和水之類的小分子物質(zhì),無(wú)二次污染
90%礦化產(chǎn)物為無(wú)害無(wú)污染物質(zhì)光催化劑不直接參與氧化還原反應(yīng),損耗較小,可長(zhǎng)時(shí)間持續(xù)使用
光催化劑/板使用壽命達(dá)2年光催化劑更換頻率低、光催化設(shè)備結(jié)構(gòu)成熟,后期運(yùn)維消耗小
無(wú)換炭、加液/藥劑等消耗